序号 | 产品名称 | 数量 | 简要技术规格 | 备注 |
4197-244BOECDDT01/01 | 离子注入掺杂设备 | 2套 | 设备用途及基本要求 本设备主要用于G8.6刚性或者柔性LTPS/LTPO/Oxide OLED工艺中的离子注入工艺。要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质。所选控制系统执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。 | CNY20000/USD3250 |
4197-244BOECDDT01/02 | 离子注入掺杂设备 | 2套 | 设备用途及基本要求 本设备主要用于G8.6刚性或者柔性LTPS/LTPO/Oxide OLED工艺中的离子注入工艺。要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质。所选控制系统执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。 | CNY20000/USD3250 |
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